포항가속기연구소(부소장 김광우)와 ㈜에스앤에스텍(대표 정수홍)은 30일(목) 포항가속기연구소에서 극자외선 노광기술 분야 펠리클, 블랭크 마스크 소재 국산화 개발을 위한 업무협약(MOU)을 체결했다.

이번 협약으로 포항가속기연구소는 ㈜에스앤에스텍이 개발 중인 반도체 소재 부품의 정밀 분석 인프라 기술을 지원한다. 또, 세계 최고 수준의 EUV 반도체 소재 국산화를 위한 상호 협력체계를 구축해 나갈 계획이다.

세계는 반도체 소자 기술 경쟁이 점점 더 치열해지고 있다. EUV를 이용한 차세대 반도체 초미세화 개발은 미래기술을 이용하는 한발 앞선 연구 중 하나이다.

앞으로 포항가속기연구소에서 정밀 분석을 지원할 블랭크마스크는 반도체 부품의 가장 기초적인 원재료이며, 기판, 금속 막 및 레지스트 막 등 특성이 중요한 요소이다. 또한, 구현하고자 하는 패턴이 미세할수록 더욱 작은 결함에도 민감하기에 엄격한 품질이 요구된다.

그리고 펠리클(Pellicle)은 반도체 노광 공정에서 포토마스크가 먼지 및 이물질로 인해 손상되는 것을 최소화하기 위해 사용하는 오염방지 용도의 소모품이다. EUV 공정을 통한 반도체 생산 시, 빛이 거울에 반사되어 웨이퍼에 닿는다.

이때 반사 구조인 EUV 장비 특성상 빛이 한번 들어왔다가 다시 반사돼서 빠져 나갈 때 펠리클에 의해 EUV 빛의 손실이 매우 크다. 따라서, 해외 그리고 국내 많은 기업에서 90% 이상의 투과율을 갖는 펠리클을 만드는 데 혈안이 되어있다.

㈜에스앤에스텍의 승병훈 전무는 “포항가속기연구소의 전문 분석 기술을 통해 EUV 파장대에서 물질의 거동을 효과적으로 파악하고, 이를 통해 회사 경쟁력을 한 단계 높이기 위해 이번 MOU를 체결하게 됐다”며 “연구소와 파트너십을 통해 EUV 소재 평가 및 개발 속도 가속화에 큰 도움이 될 것으로 확신한다”고 말했다.

포항가속기연구소 이상설 박사는 “방사광가속기가 제공하는 강한 EUV 파장을 활용한 극자외선 활용연구 인프라는 관련 소재 연구의 시발점”이라며, “첨단 반도체 분야의 상호 협력은 방사광 인프라 연구시설이 최첨단 EUV 반도체 산업 분야 활용으로 확대되는 밑거름이 될 것”이라고 덧붙였다.

한편, 포항가속기연구소는 20여 년 이전부터 X-선 및 자외선 노광을 연구하는 빔라인(실험시설)을 운영하고 있으며, 근래에는 EUV 반도체 관련 빔라인에서 다양한 연구를 진행하고 있다. 그동안은 반도체 산업용 소재의 특성을 분석하거나 분석 장비 개발 연구가 대부분이었는데, 이번 연구 협력은 반도체 소재 부품의 국산화 연구에 참여한다는 점에 의미가 있다. 연구소는 보다 원활한 반도체 분야 연구개발 지원을 위해 산업계와의 적극적인 협력을 계속할 예정이다.