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디에이테크놀로지, 2차전지 레이저 노칭 시스템 관련 신규 특허 취득

  • 2020-09-17 14:12
  • ACROFAN=류재용
  • jaeyong.ryu@acrofan.com
디에이테크놀로지(196490)가 지속적으로 기술력 강화에 성공하고 있다.

디에이테크놀로지는 전극의 레이저 노칭 공정용 패턴 지그 및 이를 구비한 레이저 노칭 시스템에 관한 신규 특허를 취득했다고 17일 공시를 통해 밝혔다.

신규 개발한 레이저 노칭 시스템은 이차전지의 전극을 연속적으로 이송하면서, 전극의 가장자리에 레이저를 지면과 수평하게 조사하여 소정의 패턴으로 전극탭을 가공하는 형태다.

이번 특허 기술을 통해 공정 중에 발생하는 스크랩 및 분진을 하측으로 낙하시켜 제거가 가능하다. 그로 인해 스크랩 및 미세 이물질이 지그에 축적되지 않아 고정력을 저하시키지 않는다. 전극 필름 상에 레이저가 어긋나 전극탭의 형상이 정확하게 절삭되지 않는 문제 역시 해결될 수 있다. 또한, 좌우로 분할된 드럼의 변부가 지그재그의 요철 구조로 되어 있어, 전극 필름의 중심부가 변형되거나 자국이 생기지 않도록 지지할 수 있다.

최근 디에이테크놀로지는 2차전지 설비 관련 기술력 강화에 초점을 맞추고 있다. 지난 8월 고속 레이저 노칭 장비와 장폭 셀 스태킹 개발에 연달아 성공했으며, 이번 신규 특허 취득을 통해 향후 신규 수주에도 큰 도움이 될 것으로 보고 있다. 지난 4일에는 150억 원 규모의 제3자배정 유상증자를 결정하며, 2차전지 설비 사업 투자 강화에 나섰다.

디에이테크놀로지 관계자는 “지속적으로 기술경쟁력 확보에 힘 쏟고 있으며, 신규 기술을 통해 2차전지 설비 시장에서 입지를 강화할 수 있을 것으로 기대한다”며 “전기차 시장 확대에 따라 2차전지 설비에 대한 수요도 늘어나고 있는 만큼 본격적인 수주 재개가 예상된다”고 말했다.